Erstellung von Fotomasken durch lasermaskenlose Lithographie
Der Hauptplatz in der modernen Technologie zur Herstellung mikroelektronischer Produkte ist die Fotolithografie. Der technologische Prozess der Fotolithografie besteht aus mehreren grundlegenden Vorgängen: Vorbereiten der Oberfläche eines Halbleiterwafers, Aufbringen einer Fotolackschicht auf die Oberfläche des Wafers, Trocknen des Fotolacks, Belichten, Entwickeln und Härten des Fotolacks, Steuern der geometrischen Abmessungen des Bildes , Ätzen des Films, Waschen des Wafers nach dem ...